表面清潔 ◆ 表面活化
◆ 鍵合 ◆ 去 膠
◆ 金屬還原 ◆ 簡單刻蝕
◆ 器械的消毒 ◆ 去除表面有機物
◆ 疏水實驗 ◆ 鍍膜前處理等
主要用途：
1、清洗納米產(chǎn)品；
2、蝕刻光刻膠，除渣、硅片清洗；
3、引線鍵合倒裝芯片底部填充，器件的封裝和解封；
4、PDMS/微流控/載玻片/芯片實驗；
5、改善金屬與金屬或復(fù)合材料的結(jié)合；
6、啟動聚合物上的官能團，實現(xiàn)親水或疏水潤濕性，增加粘合強度和可印刷性，促進**設(shè)備的生物相容性。