Kefrier 400電子氟化液的主要成分為氫氟醚（HFE），是新一代對環(huán)境影響較低的清洗劑、溶媒解決方案。尤其是其臭氧消耗潛能值（ODP）為零，即對臭氧無破壞作用，其全球暖化趨勢系數(shù)（GWP）為580，與HFC、PFC相比大幅降低，因此極大減輕了對環(huán)境的負擔。

Kefrier 400電子氟化液具有**的熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性，且擁有適度的溶解性，無閃點，應用安全，這些特點使其應用非常廣泛。

Kefrier 400可以替代HFC，PFC、杜邦公司Vertrel、3M公司Novec、旭硝子公司Asahiklin AE 3000溶劑產品。

主要特點

低表面張力、低粘度、高密度、滲透性良好、**的材料兼容性、對大部分樹脂、金屬材料無影響，可以蒸餾再生、低毒性，不燃性，無腐蝕性，應用安全度高

應用領域

精密電氣、電子清洗液：金屬、合金、復合材料、塑料等材質的精密電氣、電子元器件的清洗；精密清洗電子元器件的顆粒雜質

溶劑、稀釋劑：氟油、氟樹脂、氟涂層劑、硅油等

干燥劑：干燥、去除水分、不留水痕，去除乙醇等碳氫清洗劑

用作精密清洗劑：

Kefrier400的低表面張力、低粘度、良好的滲透性、適中的溶解性使其與超聲波結合使用可以發(fā)揮更佳的清洗效果。適用于單一溶劑清洗、與碳氫清洗劑共溶劑清洗、水分去除、干燥多種方式。

純溶劑清洗的用途舉例：CCD、CMOS傳感器等電子設備的除塵、清除表面顆粒；CCD、CMOS模塊中IR玻璃、鏡筒部位的清洗、干燥；半導體生產裝置零件、腔體的清洗；輕質與中質油污的清洗；氟油、潤滑油的清洗；顆粒的擦除清洗；印刷零件壓膜后的清洗等，純溶劑清洗的示意如下。

與碳氫清洗劑共溶劑清洗方式應用舉例：液晶模塊、面板的清洗；硬盤的懸架、托桿的脫脂清洗與干燥；精密加工零件的硅油清洗與干燥；引擎墊圈按壓后清洗；氣缸真空管的樹脂清洗；航空機零件的切削油去除清洗等

水分去除、干燥方式用途舉例：去除、干燥相機等鏡片的水分；去除、干燥CCD、CMOS傳感器封裝的水分；去除、干燥硬盤精密零件的水分