一、0.5T/H反滲透純水設備概述：

   工業(yè)純水設備主要是用于工業(yè)生產用水的純水制取裝置。工業(yè)純水設備包括反滲透設備、離子交換設備、EDI高純水設備，用在不同的行業(yè)其采用的過濾方法不同，工藝流程也不一樣。工業(yè)純水機可以用于：飲用水、瓶裝水、食品工業(yè)用水、半導體工業(yè)、、光學工業(yè)用水、電鍍用水、鋁氧化用水、化妝品護膚品生產用水、洗手液洗衣液生產用去離子水、洗洗潔精等洗滌劑工業(yè)用DI去離子水、**水、透析**用水、代替各類蒸餾水及超純水供水等

二、0.5T/H 反滲透純水設備在工業(yè)生產中的應用：

   純水在電子工業(yè)尤其是電子元器件生產中的重要作用日益突出，純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品合格率及生產成本的重要因素之一，水質要求也越來越高。在電子元器件生產中，高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產中純水的用途不同，因此對水質的要求也不同。

    在電解電容器生產中，鋁箔及工作件的清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會漏電。在電子管生產中，電子管陰極涂敷碳酸鹽，如其中混入雜質，就會影響電子的發(fā)射，進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍;含有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個顯像管需用純水80kg。

    液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質量，導致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產對純水水質的要求見表1。在晶體管、集成電路生產中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產過程中的 80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。

     水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬 (Au、Ag、Cu等)會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)?/span>N型硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。