太倉超純水設備,半導體產品清洗用水,實驗室中央超純水系統

為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟水器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透系統、離子交換混床（EDI電除鹽）系統等。系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用全自動或PLC可編程控制器，**做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

半導體清洗超純水設備制備工藝：

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→復床→混床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）

  2、預處理→雙級反滲透系統→中間水箱→增壓泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）

3、預處理→反滲透系統→中間水箱→中間水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）

4、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→混床→拋光混床→純水泵→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）

應用場合：

1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；

2、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液；

3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水；

4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；

5、液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液；

6、晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制；